日本大学理工学部 電子工学科 高橋研究室(半導体デバイス研究室)

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当研究室では主に以下のテーマについて研究を行っています.

 

 ○ 宇宙用半導体デバイス(耐放射線性半導体デバイス)の研究

    宇宙空間(放射線環境)でも正確に動作する半導体集積回路の実現を目指しています.

 ○ シリコン系発光デバイスの研究

    安価なシリコンを用いた発光デバイスの実現を目指しています.

 ○ 純水中におけるシリコン酸化膜の成膜(陽極酸化)

    室温の純水中でシリコン酸化膜が成膜可能です.

 ○ 光CVD法を用いたシリコン系絶縁膜の低温形成

    紫外線のエネルギーを用いた成膜温度の低温化を目指しています.

 ○ デバイスシミュレーションを用いた特性解析

    計算機シミュレーションにより放射線照射効果を評価しています.

 ○ 非接触電力伝送

    回転体間を非接触で電力伝送可能なシステムの実現を目指しています.

 

 (各研究テーマをクリックすると,詳細が表示されます)